Das wesentliche Kriterium für den Betrieb der GEM-Folie als
``Vorverstärker'' ist die Gasverstärkung als Funktion der
angelegten Potentialdifferenz
zwischen Ober-
und Unterseite.
Die GEM-Verstärkung
bei
ergibt
sich aus dem Verhältnis der Gesamtgasverstärkungen einer
GEM-MSGC für den Betrieb mit
und
= 0 V:
Folgende GEM-Geometrien wurden untersucht:
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In Abbildung 4.7 ist die GEM-Verstärkung als Funktion der
Potentialdifferenz
dargestellt. Die
Messungen wurden in der Zählgasmischung Ar/DME (50/50) bei
einem Driftfeld von
und jeweils vor dem
Start der Hochratenbestrahlung mit einer Fe-Quelle durchgeführt. Es war also
noch nicht zu u. U. auftretenden Aufladungseffekten oder einer Alterung der
GEM-Folie und dadurch zu einer Veränderung der GEM-Verstärkung gekommen.
Die verschiedenen Lochgeometrien stellen unterschiedliche
``Entwicklungsstufen'' in der anwendungsorientierten GEM-Forschung
dar, die sich in der Zusammenarbeit mit F. Sauli und
dessen Kontakten zur galvanischen Werkstatt am CERN ergaben.
Zunächst bestand das Interesse darin, eine große
Verstärkung bei minimaler Potentialdifferenz
zu erzielen. Dies konnte mit sehr kleinen Kaptonlöchern auch
erreicht werden. Durch die dadurch deutlich unterschiedlichen
Durchmesser von Kupfer- und Kaptonloch ergeben sich jedoch
sehr konische Löcher mit großen Flächen freien Kaptons im
Lochkegel. Der Hochratenbetrieb im Labor in Heidelberg hat
jedoch gezeigt, daß bei Geometrien mit viel freier
Kaptonfläche durch Aufladungseffekte Variationen der
Gasverstärkung von bis zu einem Faktor 2 als Funktion der Zeit in der GEM-Folie auftreten
können. Durch den mit wachsendem Abstand vom Strahlrohr abnehmenden Teilchenfluß
könnte es jedoch durch die inhomogene Bestrahlung im aktiven Bereich
einer GEM-MSGC zu stark unterschiedlichen Aufladungen und dadurch zu
variierenden Gasverstärkungen innerhalb eines Detektormoduls kommen.
Die sogenannte HERA-B-Geometrie stellt einen Kompromiß aus
erreichbarer Verstärkung, Betriebssicherheit durch möglichst
geringe Potentialdifferenz und Reduzierung der unerwünschten
Aufladungseffekte dar. Abbildung 4.8 zeigt die GEM-Verstärkung für diese
Geometrie mit einem Lochwiederholabstand von 140
m, einem Durchmesser des Kupferloches von 95
m und des Kaptonlochs von 55
m. Die Lochanordnung ist versetzt ( staggered),
das Kupfer ist zweimal geätzt ( double copper etching).
Zum Vergleich wurden
hier die GEM-Verstärkungen in den Zählgasmischungen Ar/DME
(50/50) und Ar/
(70/30) gemessen. Die Messungen zeigen, daß in der Zählgasmischung
Ar/DME (50/50) bei einer vorgesehenen GEM-Verstärkung von 20-30
bei
= 360-380 V noch ausreichend Reserve
zu höheren Spannungen besteht.
In der Zählgasmischung Ar/
(70/30) sind ungefähr
10 % höhere Spannungen notwendig, um die gleichen GEM-Verstärkungen zu erreichen.
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